电子芯片半导体行业用超纯水设备特点

在晶体管和集成电路的生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。集成电路生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片，水质的好坏与集成电路产品的质量和生产量有很大关系。在电子元器件的生产中，超纯水主要用于清洗水和用于配制各种溶液、浆液，不同的电子元器件在生产中对纯水和水质的要求是不同的。

超纯水设备特点：

1、自动化程度较高，一般采用PLC可编程序智能控制及触摸屏控制，一旦遇到故障可以立即自停，具有有效的自动保护功能；

2、耗能很低，直接导致的是水利用率高，间接上也说明运行成本很低，这对于很多企业来讲也是首要考虑的地方；

3、具有先进的膜保护系统，可在设备自动关机的时候自动将膜表面污物冲洗干净，一般冲洗时间为五分钟，当然系统自身的运行时间以及冲洗时间也可以根据自己企业的实际情况自行设定，可有效防止RO膜的结垢，以此延长膜的寿命，也是节省成本的另一种表现；

4、我司生产的超纯水设备结构合理，占地面积较少，且系统无须大量维修，运行长期有效，无须多余耗费太多资金在维保上面；

5、针对原水含盐量较高的地区采用双级反渗透，含盐量低的单级即可，本身采用的反渗透可深度除盐，并生产处高品质的纯水作为后级设备的进水。