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催化燃烧设备的造型要求

2023-03-20 00:11 浏览:2 来源:锅炉之家   
核心摘要:​​催化燃烧设备的造型要求n1、尽可能采用技术:通过改进设备结构,使吸附装置能保持在较佳状态下运行,使所设计的吸附系统处理能力大、收益大。n2、认真考虑经济因素:所设计的吸附装置和系统尽可能地简化,易于安装、维修,使用寿命不错,同时要使系统操作简便,易于管理,以节省投资及运行费用。n3、吸附装置出入口排气

​​催化燃烧设备的造型要求

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1、尽可能采用技术:通过改进设备结构,使吸附装置能保持在较佳状态下运行,使所设计的吸附系统处理能力大、收益大。

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2、认真考虑经济因素:所设计的吸附装置和系统尽可能地简化,易于安装、维修,使用寿命不错,同时要使系统操作简便,易于管理,以节省投资及运行费用。

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3、吸附装置出入口排气需要达到排放标准:这是对吸附装置的起码要求。

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4、设备选型要面向生产实际:设备选型要考虑实际生产中的规模、排气量、排污方式(连续或间歇,均匀排放还是非均匀排放)、污染物的物化特性、回收还是进一步处理等因素,正确选择吸附装置和吸附工艺系统,对一些特别污染物或特别要求的场合。选择工艺系统时还应考虑生产的发展,留有适当的余地。

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利用光化学反应降解污染物的途径,包括无催化剂和有催化剂参与的光化学氧化过程。前者多采用氧和过氧化氢作为氧化剂,在紫外光的照射下使污染物氧化分解后者又称光催化氧化,一般可分为均相和非均相催化两种类型。均相光催化降解中较常见的是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质,通过photo-Fenton反应产生HO使污染物得以降解,非均相光催化降解中较常见的是在污染体系中投加大量的光敏半导体材料,同时结合大量的光辐射,使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对,吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用,产生HO等氧化性不错的自由基,再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等使污染物全部或接近全部矿化。

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催化燃烧设备在工业废气治理上有很重要的贡献,过滤形式采用内滤器,布气均匀,过滤面积大。活性炭吸附装置紧凑,面积小,易于维护,运行成本还行。能同时处理多种混合废气。过滤器快速变化,操作简单稳定。全部密封,室内和室外都可用。

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(责任编辑:小编)
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